台積電有危險？

艾司摩爾（ASML）還在為製造2奈米、1奈米必用極紫外光（EUV）設備努力之際，美國企業Zyvex在先進製程出現重大突破，宣布成功打造0.7奈米晶片的微影系統，而這種晶片主要用於量子電腦，不過這項技術缺點是產量很低，無法滿足市場對晶片的大量需求，看來對台積電不構成威脅，EUV霸主地位也無可取代。

據美國Zyvex公司官網介紹，新推出ZyvexLitho1微影系統，基於STM掃描隧道顯微鏡，使用EBL電子束微影技術，成功製造768皮米，也就是0.7奈米晶片，等同2個矽原子寬度，為目前世上製造精密度最高的微影系統。

目前ZyvexLitho1系統製造出來的晶片，主要用於量子電腦，可打造出高度精密的固態量子元件，以及奈米元件和材料，對量子電腦來說精密度相當重要。

Zyvex公司表示，已經可以接受其他客戶訂單，機器約在6個月內出貨。

儘管EBL技術的精密度超越艾司摩爾EUV微影設備，但缺點是產量很低，無法滿足大規模製造晶片的需求，只適合小量生產，因此不可能取代現有EUV霸主地位。

荷商艾司摩爾獨家供應打造先進製程必備的EUV微影設備，目前客戶包括台積電、英特爾和三星等半導體大廠。

日經新聞先前報導，被封為「全球半導體產業背後頭腦」的比利時微電子研究中心（IMEC）表示，摩爾定律在全新技術配合之下，先進製程推進多少世代都沒有問題。

IMEC提到，1奈米製程需向前跨進4世代，目前其路線圖（Roadmap）已排定，預估在2027年就能實現，而最頂尖的0.7奈米製程可望在2029年之後量產。

節錄至 中時新聞網

2022/10/03